多晶硅主要由工業(yè)硅、氯氣和氫氣制備而來，位于光伏及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游，根據(jù)用途可分為太陽能級(jí)多晶硅和電子級(jí)多晶硅。多晶硅是生產(chǎn)單晶硅的直接原料，是人工智能、自動(dòng)控制、信息處理、光電轉(zhuǎn)換等半導(dǎo)體器件的電子信息基礎(chǔ)材料。
 

現(xiàn)有技術(shù)中，目前主要靠人工清理，由于作業(yè)時(shí)爐筒表面會(huì)有各種有毒氣體溢出或殘留，給清理人員帶來健康和安全風(fēng)險(xiǎn);同時(shí),很難找到快速、有效的方法清理垢層,傳統(tǒng)方法的清理時(shí)間一般在一小時(shí)以上,而且清理并不徹底。清理后的粉塵又會(huì)污染十萬級(jí)潔凈車間，傳統(tǒng)的機(jī)械清理方法對(duì)還原爐底盤的損傷也比較大。在現(xiàn)在質(zhì)量要求越來越高的情況下，還原爐底盤的清洗迫切需要一種革新性的清洗手段。
 

德高潔電子級(jí)多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，用PLC+觸摸屏柔性自動(dòng)控制系統(tǒng)，能實(shí)現(xiàn)對(duì)還原爐鐘罩的自動(dòng)清洗和烘干，清洗烘干時(shí)間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數(shù)可以根據(jù)需要自行調(diào)整設(shè)定，同時(shí)具有半自動(dòng)或手動(dòng)功能。一次吊裝在一個(gè)工作臺(tái)上完成全部清洗、烘干過程，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程對(duì)樓下設(shè)備的控制和主要參數(shù)監(jiān)控。

全密閉式清洗烘干系統(tǒng)，使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設(shè)計(jì)出口排放，基本消除了對(duì)現(xiàn)場(chǎng)及操作人員的污染。核心部件、元件和附件原裝進(jìn)口保證了電子級(jí)多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)性能的可靠，可以在一套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)鐘罩的清洗烘干。目前，德高潔在多晶硅還原爐清洗行業(yè)已擁有國內(nèi)90%的用戶，為多晶硅行業(yè)提供了幾十套還原爐清洗系統(tǒng)。
 
電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)特點(diǎn)：
1、多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)以水為動(dòng)力，以水力自驅(qū)動(dòng)三維清洗器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射。
2、采用可以旋轉(zhuǎn)和升降的清洗吹干執(zhí)行機(jī)構(gòu)，根據(jù)還原爐每個(gè)視孔鏡相對(duì)原點(diǎn)的相對(duì)位置進(jìn)行準(zhǔn)確定位�？勺詣�(dòng)切換不同清洗液及吹干，通過控制系統(tǒng)可對(duì)清洗、吹干時(shí)間等進(jìn)行調(diào)整。清洗時(shí)只需一鍵操作即可，操作簡(jiǎn)單方便。
3、根據(jù)還原爐底部法蘭的結(jié)構(gòu)特設(shè)計(jì)升級(jí)后的清洗工作臺(tái)，不僅可以滿足對(duì)內(nèi)壁和視孔鏡的清洗，同時(shí)也滿足了底部法蘭的清洗�？蓪�(shí)現(xiàn)對(duì)法蘭內(nèi)邊緣的清洗，保證整個(gè)法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。
4、在整個(gè)還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內(nèi)形成微負(fù)壓狀態(tài)，防止清洗外溢，同時(shí)將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過排污管排出，從而保證了整個(gè)過程不會(huì)對(duì)潔凈區(qū)造成污染。